高頻瞬態

高頻瞬態求解器是用于解決高頻電磁問題分析的全波仿真軟件模塊。以有限積分(FIT)算法為基礎，提供包括波導端口、集總離散端口、平面波在內的多種激勵源方式，支持包括電邊界PEC、磁邊界PMC、吸收邊界ABC、完全匹配層邊界PML、周期邊界PBC、阻抗邊界SIBC等多種邊界條件，結合三維建模技術、非均勻共形網格剖分、大規模并行計算方法和離散傅里葉變換(DFT)技術，可有效應用于航空、航天、電子、船舶、汽車、通訊、民用設備、高校教研領域內涉及到的復雜結構的電磁產品設計、仿真優化和性能分析。

                          
      傳輸問題                                                    輻射問題
                              

        散射問題                                                        本征問題 

  

 材料設置

     相對介電常數       各向異性材料 

     電導率/磁導率      色散材料

 邊界條件

     理想電邊界        完美匹配層邊界（open） 

     理想磁邊界        完美匹配層邊界（open add space）

   吸收邊界         周期邊界

   源與加載

     支持波導端口，離散端口，平面波等

     支持高斯，正弦等多種信號類型

 并行技術

     OpenMP并行        GPU并行        國產CPU并行 

     MPI并行          異構并行           國產DCU并行 

 高頻漸進

高頻漸進求解器是用于解決高頻電大目標散射問題的仿真模塊。該求解器以物理光學(PO)和幾何光學(GO)算法為基礎，并利用二次修正算法提高計算精度。對于飛機、船舶、大尺寸反射面等電大尺寸模型具有計算速度快、占用內存小、可并行度高、效率高等優勢。主要應用于：單站RCS計算、雙站RCS計算、逆合成孔徑雷達(ISAR)成像、雷達隱身與反隱身的仿真設計與計算分析。
  基于物理光學（PO）方法，支持以下功能：
   三種求解模式：
    ① 單站模式

  ② 雙站模式

  ③ ISAR成像模式

 電磁散射計算：支持包括金屬、均勻介質、涂層吸收材料、復雜表面阻抗材料等。

 針對角反射器、二面角等模型的多次反射修正算法。

 技術優勢：特別適用于電大尺寸目標（如艦船、飛行器、大型天線）的電磁散射問題。

電大尺寸RCS問題                                     ISAR成像問題         

 仿真流程

 精度控制

     表面網格控制技術

     積分參數控制技術

 材料設置

     支持導體

     表面覆圖層材料

     復雜表面阻抗材料